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Fine Vision

 Fine Vision for Javaでは、他に類をみない強力な輪郭抽出処理、内外自動判定を含むオフセット処理、多数の図形選択コマンドにより特定データを容易に識別選択処理できます。

また、図形同士の論理演算処理による巧みな図形編集処理、パラメータ入力による微妙なエッチング加工の一括処理、
最小間隔を保ちながら形状に応じてリニアにオフセットするエッチング補正処理を行うことができます。

 以下、おもな独自機能について説明します。

Distance Offset 

 エッチング補正のために開発された特殊オフセットコマンドです。通常のオフセット処理とは異なります。

 ご存知のとおり、エッチングスピードは液量、方法、場所など様々な要因により差があります。隣接するデータとの間が広いところにはエッチング液が十分に入っていくためにエッチングスピードは速くなり、 狭い部分ではこれと逆になります。このため、自動的にエッチング結果をデザイン通りにするのは至難の業のように思われてきました。いうまでもなく、均一なオフセット処理では不可能だからです。

 それを意図も簡単に実現させてしまうのがこのDistance Offset(ディスタンスオフセット)コマンドです。オフセット量を場所に応じて自由自在に変化させることができます。しかも、隣接するデータとの距離を見ながら、すべて自動で内部計算し結果を反映させます。もちろん、最小クリアランス値を保ちながら実行しますので、現実的でない結果になることはありません。 さらに、データ全体をいくつかのエリアに分け、それぞれに別々の設定値を設けることもできます。

 どんな場所にも、最適なオフセットを自在にかけられるコマンド、それがディスタンスオフセットです。

ディスタンスオフセット 例1 ディスタンスオフセット 例2

 青データが元となったオブジェクトです。赤データがディスタンスオフセットの結果です。隣接したデータとの距離により、オフセット結果に違いが出ることを確認していただけると思います。

 単一のパラメータだけでなく、きめ細やかな設定も可能なため、あらゆるデータに対して実行することが可能であり、思い通りの結果を得ることができます。これらの全てを人手によることなく実行できるのです。

 ディスタンスオフセットは多くのお客様に納品実績のある機能です。ベンチマークなども受け付けております。

動画サンプルはこちら

ディスタンスオフセット 例3 ディスタンスオフセット 例4
ディスタンスオフセット 例5 ディスタンスオフセット 例6  

Etching

 エッチング工程における補正データを自動的に作成する機能です。様々な形状にデータを変形させることが出来ます。また、枠で囲み一斉に実行することも可能です。

Etching Factor

 リードフレームの形状を変更、オフセットしたり、先端部分のみの形状の変更も可能です。 動画サンプルはこちら(サンプル@AB)

サンプル画像

Put Horn

 リードフレームの角出しを行います。 動画サンプルはこちら

サンプル画像(概要)

サンプル画像(詳細)



抵抗測定シミュレーション機能(オプション)


 ステラ・コーポレーションは、電極設計ツールとして抵抗値を自動的に予測し、 かつ調整することができるソフトウェアを開発しました。従来は電極形状がライン状に制約されていましたが、 新たなアルゴリズムによってあらゆる電極形状の抵抗値が予測できるようになりました。 これは世界初の快挙で、パッシブマトリクスLCD、パッシブマトリクス有機ELディスプレイ、FPCの設計支援ツールとして有効です。マルチプラットホーム対応CAMシステム設計ソフトウェア「Stella Vision for Java」のオプション機能としてインストール可能です。
Fine Vision 電極抵抗予測機能

 開発した電極抵抗予測ソフトウェアは、まず電極パターンをPC画面上で設計します。続いて、ITOやメタルといった電極材料や設定膜厚に合わせて体積抵抗率を入力します。そして、測定したい範囲をマウスで指定するだけで写真のように抵抗値が10秒以内で表示されます。

冒頭のように従来は電極形状がライン状に制約されていましたが、 ニューバージョンでは独自アルゴリズムにより曲線など異形状にも対応できるようになりました。ちなみに、膜厚はすべて同じと仮定しています。 このソフトウェア上ではマニュアル操作で電極形状を曲げたり、削ったりといった設計変更も容易で、変更後の抵抗値も瞬時に予測できます。

 こうした機能をさらにパワーアップさせたのが抵抗自動調整機能です。上記の予測をもとにすべてのラインの抵抗値を揃えることができます。具体的には、ライン間のギャップを変更せずに、ライン幅を微調整することによって抵抗値を揃えます。その際も従来設計を変更したくないブロックはそのままに、その他のブロックのライン幅を変更することにより 抵抗値を揃えることができるなどフレキシビリティも高くなっています。このため、見た目的には従来設計とほとんど変わらない設計を維持することができます。この設計微調整もパターン容量にもよりますが、 簡易的なものなら十数秒で完了します。 動画サンプルはこちら


平行線描画/ピッチ補正機能

Fine Vision Paraline 描画機能
  Stella Vision for Javaは、束線(平行線)をスムーズに描画する平行線、束線描画コマンド、描画後の束線を編集するピッチ補正コマンド、コーナー形状の変更、コーナーの移動、追加コマンド、平行線の接続コマンド、また束線の幅や間隔を瞬時に検査する束線クリアランスの検出コマンドも備えています。

Paraline

平行線描画

Fine Vision Paraline 描画機能
Fine Vision Paraline 描画機能

 束線を描画中に、基線からの距離、束線の幅、束線同士の間隔を変更できます。マウスカーソルによる設定も可能ですので、瞬時に、そして簡単な操作で変更できます。さらに、調整領域機能を使用することにより、束線ごとの電気抵抗を近似的に統一しながら描画することも可能です。

 右の写真のように、束線のコーナー形状は3つのタイプから選択でき、コーナー部分の半径を指定することも可能です。 また、端点の接続方法も3タイプ(開く、線分、円弧)用意しています。 動画サンプルはこちら

 

Correct Pitch

Fine Vision Correct Pitch 機能
ピッチ補正

ピッチ補正コマンドを使用することにより、描画後の束線を編集でき来ます。束線の幅、間隔、ピッチを自由に変更することが可能です。 また、複数の束線に対して実行することができますので、編集作業もより短時間で行うことが可能になりました。 動画サンプルはこちら

潟Xテラ・コーポレーション
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Tel: 047-432-5031 Fax: 047-432-5032
e-Mail support@stellacorp.co.jp
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