マスクレス露光装置やIJ装置などのダイレクトパターニング装置にも有効

　さまざまな機能を装備するStella Vision forJAVA。 ここにきてエレクトロニクスデバイスで採用機運が高まっている ダイレクトパターニング装置にインストールすれば新たな付加価値が生まれます。

　例えば、下層や周辺構造物との位置合わせが必要なレイヤーをパターニングする工程。 この工程を含め、通常はあらかじめ遮光膜をパターニングしたフォトマスクを 用いてフォトレジストなどを露光します。一方、マスクレス露光装置や インクジェットプリンティング(IJ)装置ではあらかじめ作製したCADデータにしたがってパターンを描画します。 これらダイレクトパターニング装置のメリットはマスクレスでリアルタイムにパターンデータ が変更できることですが、実際にはそうしたパターンデータの変更 は基板の歪みを補正するオートスケーリング程度にとどまっていると考えられます。

　これに対し、Stella Vision forJAVAを使えば1層目や周辺構造物の実パターンに合ったCADパターン 変更が高速かつ容易にできます。例えば、密着層である1層目をパターニングした後、 STシリーズをはじめとする検査・測長装置で長寸法、線幅などを測定。このデータをStella Vision for JAVAをインストールしたマスクレス露光装置やIJ装置にインプットします。ここでStella Vision for JAVAは2層目のCADパターンデータを1層目の実パターンに最適になるように微調整することができます。 線幅やギャップ幅などを変更し最適化できるわけで、その位置合わせ精度も大幅に向上します。 つまり、リアルタイムで実パターンにベストなCADデータに修正できるわけです。 こうした付加価値はダイレクトパターニング装置の付加価値をさらに押し上げるといってもいいでしょう。

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