STELLA通信は潟Xテラ・コーポレーションが運営しています。 |
FPD/PCB NEWS〜6月27日
|
住友ゴムと九大 「高分子バイオマテリアル研究に関する寄附研究部門」を開設 住友ゴム工業と九州大学は、6月1日付で「高分子バイオマテリアル研究に関する寄附研究部門」を開設した。研究部門の設置のおもな目的は、特定の細胞の接着性を制御するためのより高性能な特殊高分子の設計・合成に加え細胞・タンパク質・高分子間の相互作用を解明するための最先端のナノバイオ面解析(ナノサイズのセンサーにより細胞が接着した表面の分子相互作用を解析すること)により、医療や生体解析などの分野で用いられる高分子を用いた人工組織や医療材料などの高分子バイオマテリアル学を創成するための研究を進めることにある。この研究により有機・高分子合成、バイオ界面分析、細胞工学の3つの分野を統合した研究開発が可能になる。 |
FPD/PCB NEWS〜6月25日
|
|
SCREENファインテックソリューションズ 有機ELDのブラックPDL形成用塗布現像装置をリリース 両装置は有機EL基板上のバンク形成用としてより反射防止効果を高めるブラックPDL向け。従来機種の「Eシリーズ」の基本スペックを継承しつつ、ブラックPDL専用に開発された初めての装置で、新開発した専用スリット式塗布装置「レビコータ」をはじめ、専用の塗布ノズル洗浄機構や現像処理装置の搭載により、良品率の向上・安定化に寄与するという。 |
FPD/PCB NEWS〜6月20日
|
三井・ダウポリケミカル 千葉工場でISCC PLUS認証を取得 三井・ダウポリケミカルは、千葉工場(千葉県市原市)で持続可能な製品の国際的な認証制度であるISCC PLUS認証を取得したと発表した。ISCC PLUS認証(国際持続可能性カーボン認証)はバイオマス等の持続可能性原料についてサプライチェーンにおいて適切に管理されていることを担保する認証制度で、世界で販売されるバイオマスや再生由来等の原料や製品を対象としている。今回、低密度ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル共重合体の認証取得により、今後、バイオマスや再生由来等の原料をマスバランス方式によって割り当てたISCC PLUS認証製品の製造・販売をすることが可能となった。 |
FPD/PCB NEWS〜6月14日
|
|
富士フイルム 韓国平澤市の先端半導体材料工場が竣工 新工場は半導体材料の韓国現地法人「FUJIFILM Electronic Materials Korea」が建設。イメージセンサー用カラーフィルター材料「COLOR MOSAIC」を生産する。本格稼働は12月末の予定。 |
FPD/PCB NEWS〜6月12日
|
|
大日本印刷 黒崎工場内で有機ELD製造用メタルマスク生産ラインを稼働
黒崎工場の本格稼働により、メタルマスクの生産能力は従来の2倍にアップする予定。 |
FPD/PCB NEWS〜6月6日
|
東京理科大 固体電子移動過程を可視化できる結晶性DWナノチューブを創製 東京理科大学理学部第一部応用化学科の湯浅順平教授、同大学大学院理学研究科化学専攻の緒方大二博士、小出祥太氏、岸寛之氏の研究グループは、2種類の配位子を有する環状のZn錯体を用いて頑丈で柔軟な二重壁構造を有する新規結晶性ナノチューブを合成することに成功した。このナノチューブのチャネル内部にテトラチアフルバレン(TTF)やフェロセン(Fc)などの電子ドナー分子を包摂し、固体の電子酸化反応前後での結晶構造変化を明らかにすることにより、固体中の電子移動を直接観測した。 |
FPD/PCB NEWS〜6月4日
|
東北大と筑波大 従来困難だった5nm以下の金属酸化物微粒子を精密合成する技術を開発 東北大学国際放射光イノベーション・スマート研究センターの横哲准教授と西堀麻衣子教授、東北大学材料科学高等研究所(WPI-AIMR)の阿尻雅文教授、筑波大学数理物質系/エネルギー物質科学研究センターの西堀英治教授らの共同研究グループは、流通式超臨界水熱合成法における反応制御・高度化を研究し、反応時間を変える簡便な操作により1?10nmの金属酸化物ナノ粒子を精密に合成する技術を開発した。さらに、放射光X線回折データを精密に解析したところ、超微細CeO2ナノ粒子は粒子の融合によって高速成長することが明らかに。また、放射光軟X線分光を駆使し、2nm程度のCeO2は酸素欠損をともなわず構造歪が誘起する特異な電子状態をとることを発見した。 |
FPD/PCB NEWS〜6月3日
|
|
SCREEN PE パッケージ基板向け直接描画装置を発売 Ledia Qsはブロード波長型露光装置として業界最高解像力を誇る露光ヘッドをベースに、昨年発表した「Ledia 8F」で開発した技術を融合することにより、高い描画品質と安定した描画位置精度を両立した。 |